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ITO粉末材料中銦的氧化物的含量約為90%左右,錫的O粉 末材料 中銦 的氧化物 的含量 約為 9 %左右p我HP4將 H控 制在 25.,用ET容量 法進(jìn) 行

ITO(Indium Tin Oxide) 氧化銦錫,為銦氧化物和錫氧化物的混合物。主要的特性為電學(xué)傳導(dǎo)和光學(xué)透明度,可同時(shí)具有低電阻率及高光穿透率的特性,制成薄膜時(shí)符合了

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粉末的制備技術(shù)的研究工作是制 備發(fā)展 I T O 利用一套特殊的氣化法 生產(chǎn)設(shè)備 ( 保密生產(chǎn)線 ITO納米粉的低溫制備 2頁 1下載券 納米ITO粉體

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