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氮化硅干法刻蝕工藝設備模型的試驗與測量--《微電子學》年期摘要:通過對氮化硅薄膜干法刻蝕工藝實驗結果的測量,得到硅片表面非均勻性分布的具體測量數據,并對這種現象的成因進行了定性的理論分析,為下一步建立刻蝕工藝設備模。

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